略歴

• 1982年8月3日（北海道）生まれ


• 2001年3月 東京都立武蔵高等学校卒業
• 2006年3月 東京大学工学部応用化学科卒業
• 2008年3月 東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻修士課程修了
• 2010年9月 東京大学大学院工学系研究科応用化学専攻博士課程修了、博士(工学)


• 2009年4月－2010年9月 日本学術振興会特別研究員(DC2)
• 2010年10月－2014年3月 日本学術振興会特別研究員(PD)
• 2014年4月－2017年11月 東京大学生産技術研究所 特任助教
• 2017年12月－現在 東京大学生産技術研究所 助教

研究テーマ

• InN系窒化物薄膜の高品質化と電界効果トランジスタへの応用
• フレキシブル電子デバイスの作製
• 酸化物ヘテロ構造の電子デバイス応用
• ヘテロ接合高速電子素子に関する研究
• 格子整合基板上への窒化物半導体結晶成長と物性評価

受賞歴

• 2009年5月 日本結晶成長学会ナノ構造・エピタキシャル成長分科会発表奨励賞
• 2011年6月 日本結晶成長学会ナノ構造・エピタキシャル成長分科会研究奨励賞
• 2013年8月 10th International Conference on Nitride Semiconductors Best Poster Award
• 2016年8月 日本結晶成長学界第23回技術賞

趣味

• スキー、スノーボード

連絡先

• 東京都目黒区駒場4-6-1
• 東京大学生産技術研究所 藤岡研究室
• TEL:03-5452-6342 FAX:03-5452-6343
• E-mail: kueno(at)iis.u-tokyo.ac.jp
  (at)を＠に変更してください。